ফাইন ইউনিফর্ম পুরুত্ব ফিল্ম 3 সি বৈদ্যুতিন উপাদান ভ্যাকুয়াম পিভিডি ম্যাগনেট্রন স্পটারিং লেপ সরঞ্জাম

কার্যনির্বাহী: স্পটটার ডিপোজিটান স্পটরিং দ্বারা পাতলা ফিল্ম জমা করার একটি শারীরিক বাষ্প জমা (পিভিডি) পদ্ধতি। এর মধ্যে একটি "লক্ষ্য" থেকে উপাদান সরিয়ে নেওয়া জড়িত যা একটি সিলিকন ওয়েফারের মতো "সাবস্ট্রেট" এর উত্স। পুনরায় বিবর্তন হচ্ছে আয়ন বা পরমাণু বোমাবর্ষণ দ্বারা জমানো প্রক্রিয়া চলাকালীন জমা হওয়া উপাদানগুলির পুনঃ নির্গমন। লক্ষ্য থেকে বেরিয়ে আসা বিভক্ত পরমাণুর বিস্তৃত শক্তির বিতরণ থাকে, সাধারণত দশ দশক পর্যন্ত EV (100,000 কে) পর্যন্ত। বিভক্ত আয়নগুলি (সাধারণত উত্পন্ন কণার কেবলমাত্র একটি ক্ষুদ্র ভগ্নাংশটি আয়নিত হয় - 1 শতাংশের ক্রম অনুসারে) ব্যালিস্টিকভাবে লক্ষ্য থেকে সরাসরি সরলরেখায় উড়ে যেতে পারে এবং স্তরগুলিতে বা ভ্যাকুয়াম চেম্বারে শক্তিশালীভাবে প্রভাব ফেলতে পারে (শ্বাসকষ্ট সৃষ্টি করে)। বিকল্পভাবে, উচ্চতর গ্যাসের চাপগুলিতে, আয়নগুলি গ্যাসের পরমাণুর সাথে সংঘর্ষ হয় যা মডারেটর হিসাবে কাজ করে এবং বিচ্ছিন্নভাবে সরে যায়, স্তরগুলি বা ভ্যাকুয়াম চেম্বারের প্রাচীরে পৌঁছায় এবং এলোমেলো পদব্রজে যাওয়ার পরে সংশ্লেষ হয়। উচ্চ-শক্তি ব্যালিস্টিক প্রভাব থেকে নিম্ন-শক্তি তাপীয় গতি পর্যন্ত পুরো পরিসীমা ব্যাকগ্রাউন্ড গ্যাসের চাপ পরিবর্তন করে অ্যাক্সেসযোগ্য। স্পুটরিং গ্যাস প্রায়শই অর্গনের মতো একটি জড় গ্যাস। দক্ষ গতিবেগ স্থানান্তর জন্য, sputtering গ্যাসের পারমাণবিক ওজন লক্ষ্য এর পারমাণবিক ওজনের কাছাকাছি হওয়া উচিত, তাই sputtering হালকা উপাদান জন্য নিয়ন পছন্দনীয়, যখন ভারী উপাদান ক্রিপটন বা জেনন ব্যবহার করা হয়। প্রতিক্রিয়াশীল গ্যাসগুলি স্পাউটার যৌগগুলিতেও ব্যবহার করা যেতে পারে। যৌগটি লক্ষ্য পৃষ্ঠের উপর ভিত্তি করে, ফ্লাইটে বা প্রক্রিয়াটির পরামিতিগুলির উপর নির্ভর করে সাবস্ট্রেটে গঠিত হতে পারে। অনেকগুলি পরামিতিগুলির প্রাপ্যতা যা স্পুতের জোট নিয়ন্ত্রণ করে এটি একটি জটিল প্রক্রিয়া করে তোলে, তবে বিশেষজ্ঞরা ফিল্মের বৃদ্ধি এবং মাইক্রো স্ট্রাকচারের উপর নিয়ন্ত্রণের একটি বৃহত্তর পরিমাণে অনুমতি দেয়।

বৈশিষ্ট্য: ফিল্মের বেধ এবং রঙ নিয়ন্ত্রণ করা সহজ, সূক্ষ্ম এবং মসৃণ ফিল্ম কণা

অ্যাপ্লিকেশন: 3 সি পণ্য, ঘড়ি, গহনা ইত্যাদি

সবুজ প্রক্রিয়া: কোনও ক্ষতিকারক গ্যাস, নষ্ট জল, কোনও বর্জ্য উপাদান নেই।